当前位置:主页 > 耀世娱乐资讯 >
高端精密设备仪器分析-退火、薄膜、电镀设备用途及市场分析
时间:2023-10-18 10:24 点击次数:92

  集成电路电镀工艺 特点: 体积小,设备布局合理,使 用便捷,技术成熟。 生产单位:中国电子科技集 团公司45所

  又称金属有机气相外延 (MOVPE),它是利用有机 金属热分解进行气相外延生长的先进技术,目前 主要用于化合物半导体薄膜气相生长上。

  MOCVD方法是利用运载气携带金属有机物的蒸气进入 反应室,受热分解后沉积到加热的衬底上形成薄膜。它 是制备铁电薄膜的一种湿法工艺。

  离子注入 退 扩 火 散 制 氧 电 膜:制作各种材料的薄膜 C V D、P V D

  高能粒子撞击硅片表面,造 成晶格损伤,因此为了消除 离子注入造成的损伤和激活 注入的杂质离子,离子注入 后必须要进行热退火。最常 用的是在950℃高温炉中在 氮气保护下,退火15~ 30 分钟。热退火后对杂质分布 将产生影响。

  铝互连的优点: 铝在室温下的电 阻率很低,与硅和磷 硅玻璃的附着性很好 ,易于沉积与刻蚀。 由于上述优点,铝成 为集成电路中最早使 用的互连金属材料。

  电迁移现象的本质是 导体原子与通过该导体电子 流之间存在相互作用,当一 个铝金属粒子被激发处于晶 体点阵电位分布的谷顶的时 候,它将受到两个方向相反 的作用力: (1)静电作用力, (2)“电子风”作用力,

  用热蒸发或电子束、激光束轰击靶材等方式产生气相物质, 在真空中向基片表面沉积形成薄膜的过程称为物理气相沉 积。

  可以脱离金属表面的束缚成为蒸汽原子,淀积在晶片上。 利用物质在高温下的蒸发现象,可以制备各种薄膜。

  包括低压化学气相沉积LPCVD、 离子增强型气相沉积PECVD、 常压化学气相沉积APCVD、 金属有机物气相沉积MOCVD、

  只要是气相沉积,其基本过程都包括三个步骤;提 供气相镀料;镀料向所镀制的工件(或基片)输 送;镀料沉积在基片上构成膜层。

  化学气相沉积 CVD 化学气相沉积: 是指一定化学配比的 反应气体,在特定激 活条件下,通过气相 化学反应生成新的膜 层材料沉积到基片上 制取膜层的一种方法。

  CVD技术特点: 具有淀积温度低、薄膜 成分和厚度易于控制、 均匀性和重复性好、适 用范围广、设备简单等 一系列优点,CVD方法 几乎可以淀积集成电路 工艺中所需要的各种薄 膜

  图形转移:将设计在掩膜版(类似于照相底片)上的图形转移到半导体单晶片上 光 刻 刻:接触光刻、接近光刻、投影光刻、电子束光刻等 蚀:干法刻蚀、湿法刻蚀

  所谓的集成电路互 连技术,就是将同 一芯片内各个独立 的元器件通过一定 的方式,连接成具 有一定功能的电路 模块的技术。

  电迁移现象 是集成电路制造 中需要努力解决 的一个问题。特 别是当集成度增 加,互连线条变 窄时,这个问题 更为突出。

  经过数十年的发展,薄膜 的沉积技术由早期的蒸镀 开始至今,已经发展成为 几个主要的方向: PVD/CVD/ALD。

  由单个的原子、 离子、原子团无 规则地入射到基 板表面,经表面 附着、迁徙、凝 结、成核、核生 长等过程而形成 的一薄层固态物 质。

  SSFL300/200-11-03-ANL退火炉 用途:用于集成电路芯片制造过程中的退火工艺 特点:先进的温控系统 产量高 占地面积小 颗粒控制好 生产厂家:北京七星华创电子股份有限公司

  基本上,集成电路就是由 数层材质不同的薄膜组成, 而使这些薄膜覆盖在硅片 上的技术就是通常所说的 薄膜沉积和薄膜的成长技 术。

  定义: 退火也叫热处理,集成电路工艺中 所有的在氮气等不活泼气氛中进行 的热处理过程都可以称为退火  退火工艺的作用: a、激活杂质:使不在晶格位置上 的离子运动到晶格位置,以便具 有电活性,产生自由载流子,起 到杂质的作用 b、消除损伤  退火工序的常用方式: a、炉退火 b、快速退火:脉冲激光法、扫描 电子束、连续波激光、非相干宽 带频光源(如卤光灯、电弧灯、石 墨加热器、红外设备等)

  MOCVD系统的组件可大致分为:反应腔、气体控制及混合系统、 反应源及废气处理系统。

  3)精确的组分控制; 4)易获得大面积均匀薄膜; 5)可在非平面底上生长、可直接制备图案器件、易 于规模化和商业化。

  薄膜的制备方法 真空蒸发 溅射 离子镀 常压CVD、 低压CVD、 金属有机物CVD、 等离子体CVD、

  特点:上下双室结构,装片室和溅 射室分隔,高真空状态,不会造成 氧化和靶中毒,提高靶材的利用率, 全自动电脑控制,效率高,产能高。 生产企业:成都南光机器有限公司 使用企业:成都亚光电子股份有限 公司

  用途: 在半导体6-8寸晶圆上沉积氧化膜、 氮化硅、多晶硅薄膜。也可以做退火、 磷硼扩散工艺。 特点: 自动化程度极高、工艺稳定。打破国 际技术封锁。

  放电形成的离子被强电场加速,轰击靶材,使靶原子逸出 并被溅射到晶片上的技术。

  用途: 应用于12寸集成电路制造工 艺中的物理沉积工艺、功率 器件厚铝薄膜的沉积。 特点: 设备扩张性强、应用技术带 广,可实现多种薄膜的沉积。 性价比高。

Copyright © 2028 耀世娱乐注册 TXT地图 HTML地图 XML地图